镀铬添加剂的发展前景

一般将单独使用硫酸为催化剂的镀铬液称为第一代镀铬液，同时加入二种或两种以上无机阴离子的镀铬液称为第二代镀铬液，这些无机阴离子主要为氟化物、溴化物、碘化物等。其中加入氟化物可以提高电流效率、覆盖及分散能力，但含氟化物的镀液在低电流区对工件腐蚀比较严重，目前比较先进的镀硬铬工艺都不含氟化物。
在电镀中一般的电镀工艺电流效率在70%～100%之间，而目前生产中使用的镀铬工艺则电流效率很低，一般只有10%～25%，所以有很大的发展潜力，再者镀铬的应用十分广泛。因此，对镀铬的研究开发具有重要意义和良好的前景。
近年来镀铬添加剂的研究围绕着解决镀铬的电流效率低、环境污染严重、消耗量大、镀液的覆盖能力差等问题而展开．热点是稀土阳离子添加剂、有机阴离子添加剂及复合型添加剂的研究，并且已经取得了较大的进展。如CS型、RI-3C、CF-20l、HC-1、HEEF25、CH系列添加剂Atotech公司的HCR840等都已进入生产阶段。超快速镀铬工艺HEEF-Fc采用高电流效率和高电流密度的方法使其镀速为普通镀铬的10倍，但对设备的要求也更严格。
综合以上对添加剂的作用分析，可以看到，有机阴离子及复合型添加剂有很大的开发潜力，深入理解添加剂的作用机理，结合生产实践探索新型高效节能的环保型添加剂是电镀工作者面临的紧迫任务。